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等離子去膠機(jī)是一種利用等離子體技術(shù)進(jìn)行表面清洗和去膠的設(shè)備，它通過(guò)氣體放電產(chǎn)生等離子體，這些高能粒子能夠解離化學(xué)鍵、改變分子結(jié)構(gòu)，從而有效去除硅片、玻璃片等材料...
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國(guó)產(chǎn)等離子清洗機(jī)在使用過(guò)程中可能會(huì)遇到多種常見(jiàn)問(wèn)題，這些問(wèn)題涉及氣體供應(yīng)、真空系統(tǒng)、電源、電極或噴嘴、控制系統(tǒng)、溫度以及操作等方面。一、氣體供應(yīng)問(wèn)題問(wèn)題表現(xiàn)：氣體瓶壓力不足或氣體流量調(diào)節(jié)異常，導(dǎo)致等離子體無(wú)法正常形成。解決方法：檢查氣體瓶的壓力，確保氣體充足；調(diào)節(jié)氣體流量控制器，確保氣體流量在設(shè)備要求的范圍內(nèi)。二、真空系統(tǒng)故障問(wèn)題表現(xiàn)：真空泵故障、真空管道泄漏或真空腔門(mén)未關(guān)嚴(yán)，導(dǎo)致真空度不足，影響清洗效果。解決方法：檢查真空泵的運(yùn)行狀態(tài)，必要時(shí)進(jìn)行維修或更換；檢查真空管道的連...
[查看詳情]應(yīng)用案例
等離子清洗特點(diǎn)是不分處理對(duì)象的基材類(lèi)型，均可進(jìn)行處理，對(duì)金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大多數(shù)高分子材料等都能很好地進(jìn)行超清洗。
圖為PLUTO-T等離子清洗機(jī)對(duì)陶瓷基板上銀氧化層的清洗實(shí)例。
等離子清洗機(jī)可用于晶圓或者電路板表面的光刻膠去除，以及去除光學(xué)元件、半導(dǎo)體元件表面的光阻材料等。
圖為PLUTO-MD等離子去膠機(jī)對(duì)PCB板和硅片的去膠實(shí)例。
改善粘合力-用于光學(xué)元件、生物醫(yī)學(xué)、封裝領(lǐng)域等；
表面改性-用于高分子材料表面修飾、PDMS微流控芯片鍵合、玻璃等，增強(qiáng)表面粘附性、浸潤(rùn)性、相容性；
圖為PLUTO-M對(duì)線(xiàn)路板、橡膠管和手機(jī)膜的表面改性實(shí)例。
等離子刻蝕是干法刻蝕中常見(jiàn)的一種形式，其原理是暴露在電子區(qū)域的氣體形成等離子體，電離氣體原子通過(guò)電場(chǎng)加速時(shí)，會(huì)釋放足夠的力量與表面驅(qū)逐力緊緊粘合材料或蝕刻表面。
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